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国产芯片最大的技术难点是什么?

作者: 宇凡微 编辑: 单片机工程师 来源: 宇凡微 发布日期: 2023.01.30 浏览次数:
信息摘要:
我国的芯片产业一直被欧美国家卡脖子,特别是芯片制造方面,由于大陆起步较晚,无法生产高端芯片,导致大陆的厂家需要寻找台积电等芯片代工厂生产,而…

        近几年来,我国的芯片产业一直被欧美国家卡脖子,特别是芯片制造方面,由于大陆起步较晚,无法生产高端芯片,导致大陆的厂家需要寻找台积电等芯片代工厂生产,而一旦对方无法提供代工服务,我们就会面临芯片荒的窘境。今天我们就来聊一聊国产芯片面临的最大技术难点是什么。

        第一个难点在于原材料方面。由于国内化工行业发展较西方起步较晚,缺乏先进材料的研发投资和人才储备,日美等国外企业卡住了大硅片、光刻胶、刻蚀剂、特纯气体等材料。而材料的底层是化学,在短时间内很难做到技术突破,这个过程需要时间沉淀和积累。只有不断尝试和犯错,不断研发,才能取得成果。

国产芯片

国产芯片

        国产芯片第二个技术难点在于设备。众所周知,芯片半导体的生产离不开高端的设备,每个过程都需要专门的设备才能进行,刻蚀、CMP、CVD、PVD、光刻机、量测设备等一系列都是芯片制造不可获取的,而且随着芯片工艺的升级,设备也需要进行更新换代,而核心设备的研发一般来说需要5-10年的时间。目前,我国支持生产14纳米以下芯片的先进制程的设备和国外还有较大差距。

        第三个技术难点就是EDA,这是芯片设计不可或缺的软件。如果没有EDA软件工具以及IP授权,即便是再天才的工程师也无法设计出好的芯片。EDA需要懂计算机、算法、工艺、器件、电路设计的跨学科人才。这块全球只有三家巨头,其中两家是美国公司,而国内在EDA方面才刚起步,公司也很少。

EDA设计

EDA设计

        第三个技术难点就是制造工艺了。如今,最先进的工艺制程已经到了3纳米,台积电和三星率先实现了量产。而在大陆目前最先进的是中芯国际的14纳米,和国外先进的工艺制程差距在三代左右。所以老美敢于封锁14纳米以下的先进制程技术和设备。

        国产芯片最后一个技术难点就是人才匮乏,由于我国在半导体行业起步较晚,相关的人才培养体系和大学专业课程还不太完善,我国缺少顶尖的架构师和研发人员,而底层技术的突破就需要大量的物理学家、化学家和数学家等跨学术的人才去突破。

        总结来看,国产芯片最大的技术难点在原材料、设备、EDA、制造工艺以及人才等五大方面,每个方面都需要时间去突破,因此任重而道远。但是我们也不需要太担心,虽然在高端芯片领域我们目前受到限制,但是近年来随着国家政府对芯片产业的重视,以及众多国产芯片厂商的崛起,只要我们做到脚踏实地,一步一个脚印,总有一天会追上甚至赶超国外的巨头。

        以上就是关于国产芯片最大的技术难点是什么的全部内容分享,如果您有单片机或者方案开发需求,可以点击右边的咨询热线和微信扫一扫直接和我们联系,宇凡微提供8/32位单片机,为客户量身定制的合封单片机,拥有成熟的封装技术和封装工艺,除了能够保证合封之后的良率以及安全性,还能根据客户的功能需求选择最佳的合封方式,节省成本。

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