光刻机为什么中国做不出来

光刻机是一种高端的光学设备，用于在芯片表面刻印出精确的图案和结构。光刻机的技术含量很高，需要大量的研发和制造经验。

目前中国是能造光刻机的，我们在2020年已经搞定了180nm制程光刻机的全国产化，但是相对比较低端，不适合现在的手机电脑等高精度的设备，因此很多企业认为研发光刻机不如买光刻机，因为成本太大了。而目前能造出光刻机的只有荷兰、日本、中国三个国家，能造出euv光刻机的只有荷兰和日本。

中国在过去几十年中一直在努力发展自己的芯片产业，但是光刻机的制造却一直是中国芯片产业的短板。主要原因有以下几个方面：

技术积累不足：光刻机是一项高端技术，需要长期的技术积累和经验积累。中国在过去几十年中主要发展的是制造业，对于高端技术的研发和制造经验积累不足，这也导致了在光刻机等高端技术领域的发展相对滞后。

制造工艺落后：光刻机的制造需要极高的精度和工艺水平。中国在制造业方面的技术水平相对较低，尤其是在精密加工和制造方面还存在较大的差距。这也使得中国在制造高端光刻机方面的困难更加严峻。

人才短缺：光刻机制造需要大量的技术人才和管理人才。中国在这方面的人才储备相对较少，尤其是在高端技术领域的人才更加短缺。

希望未来中国制造业的不断发展和政府对高端技术领域的重视，中国在光刻机制造方面的技术水平和制造能力也将会得到很大的提升。