不同的国家、企业,在芯片制造基本工艺领域擅长的工艺也各不相同。例如清洗工艺的核心竞争企业多达12家,其中2家为中国企业,2家为韩国企业,剩余的8个企业,日本和美国各占一半。除了清洗工艺,在热处理工艺、掺杂工艺、薄膜工艺、光刻工艺等方面,各个核心企业的工艺也各不相同。那么在技术创新方面,不同国家核心企业又分别偏向哪个领域呢?
日本企业多位突破式创新与模仿式创新相结合,倾向于在他人的成果上进行创新,增加技术的新颖性;韩国企业多为突破式创新,最为大众所熟知的三星电子公司就格外擅长突破式创新;而大家最为关注的国内企业,则是以模仿式创新为主,少数企业可以进行突破式创新。目前很多国内芯片制造厂商大都采用模仿式为主,突破式为辅的创新方式,在学习中实现技术的突破。
目前,中国的芯片制造技术正在渐渐走出模仿式创新,不再盲从于国外的创新模式,而是开始结合中国独有的资源禀赋和制度环境,因地制宜地升级创新技术,制定新的创新策略,未来中国的芯片制造行业将会呈现出全新的格局。
以上就是关于芯片制造技术的企业创新特征的全部内容分享,如果您还有芯片方面的疑问,欢迎留言咨询。宇凡微14年专注于单片机应用方案的开发、MCU功能定制开发,致力于打造全球电子产业链最完整的单片机方案!
免责声明:部分文章信息来源于网络以及网友投稿,本网站只负责对文章进行整理、排版、编辑,是出于传递 更多信息之 目的,并不意味着赞同其观点或证实其内容的真实性,如本站文章和转稿涉及版权等问题,请作者在及时联系本站,我们 会尽快处理。官方所有内容、图片如未经过授权,禁止任何形式的采集、镜像,否则后果自负!
标题: 宇凡微
地址:https://www.yufanwei.com/
【相关推荐】
咨询热线
13530680751