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中端国产光刻机诞生

来源: | 发布日期:2023-05-30
中端国产光刻机的诞生标志着中国在半导体制造领域的重要进展。光刻机是半导体制造过程中的关键设备,用于将芯片的电路图案投射到硅片上。传统上,全球主要的光刻机供应商都集中在美国、欧洲和日本等发达国家,中国一直依赖进口光刻机来满足国内芯片制造需求。然而,随着中国对半导体自给自足的追求和技术实力的提升,中国开始投入大量资源和努力来发展自己的光刻机制造能力。
中端国产光刻机诞生
中端国产光刻机诞生主要是上海微电子的90nm光刻机,90nm光刻机经过两次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。当然,随着曝光次数越多,良品率会越来越低,因此此光刻机主要集中在中端领域,此光刻机在2007年就研发出来了,但是到了2018年才实现量产,可见光刻机每一步都很艰难,截止至目前,我国量产的光刻机仍然停留在90nm。

很多人说要弯道超车,但是在光刻机这种技术非常复杂的设备上,我们也只能一步一步来,希望中国有朝一日也能量产出7nm的EUV光刻机。

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