中国如何突破光刻机困境呢

中国光刻机可以说是内忧外患，光刻机被美国限制，而我国在几年前就能量产90nm的光刻机，但是被美国制裁后就一直没有突破，光刻机进度发展缓慢，那么中国应该如何才能突破光刻机面临的困境，打破美国的封锁呢？

1、人才培养
光刻机需要高水平的人才，因此我们在配套设施需要用各种福利和激励机制去吸引这些人才，同时从高校开始注重光刻机领域人才的培养。还可以积极引进国外的人才，通过文化、服务去留住这些人，他们持续为中国的技术创新添砖加瓦。

2、政策支持
政府需要打造好的营商环境，或者建造相关的产业园区，汇聚企业力量，促进相关合作，打造良好的配套设施，让产业能更好的协同。

3、资金投入
光刻机的研发周期很长，甚至会出现重金投入后连水花都没有，因此在这方面需要有足够的资金进行支持，需要提供良好的融资渠道，对于一些优秀项目要设置专项的投资基金。对于关键项目要给予合理的补贴资金。

4、加强国际合作
要利用好国际资源，促进国与国之间的技术交流和相互合作，在资金、人才、资源上相互协调支持，参与相关国际标准的制定，提升中国在光刻机领域的话语权和地位。

中国想要突破光刻机困境，不是一朝一夕的事，需要多方面进行努力，最终才能实现这个目标。随着美国的各种封锁实施，我国自主研发的决心也是越来越坚定，相信未来我国一定会突破光刻机困境，拥有属于自己的高端光刻机。